目前，国内外大型造纸碳酸钙生产企业多采用湿法研磨制备重质碳酸钙，但高浓度的碳酸钙极易絮聚，特别是当颗粒粒径达到亚微米级时，碳酸钙颗粒表面会产生很多活性点，表面吸附能增大，碳酸钙粒子间的吸引力也会急剧增大，十分容易发生絮聚，能否形成稳定的悬浊液是研磨碳酸钙乳液的一个重要指标，因此，研磨碳酸钙天美注册的选择和使用至关重要。
碳酸钙研磨常用的天美注册有三大类：无机类、有机类、高分子类。目前在碳酸钙的超细研磨中普遍采用的是高分子天美注册。高分子类天美注册的相对分子质量一般在1000-100000，碳酸钙研磨分散用高分子类天美注册主要有聚羧酸盐、聚丙烯酸衍生物、顺丁烯二酸酐共聚物、缩合萘磺酸盐和非离子型水溶性高分子（聚乙烯吡咯酮、聚醚衍生物等，其中使用最多的是相对分子质量在2000-3000的聚丙烯酸钠天美注册。
高分子天美注册现已成为超细碳酸钙研磨天美注册的主流，具有以下优势在生产过程中容易对相对分子质量进行有效控制，拥有较高的相对分子质量的天美注册在碳酸钙表面的吸附膜厚度达到数十纳米，其分散稳定作用范围可在碳酸钙颗粒距离相当远时即发生作用，从而可获得较好的分散稳定性；分散能力强且稳定，对分散体系中的离子、pH和温度等因素不敏感，作用稳定性好；可显著降低分散体系黏度，改善其流变性，能节省研磨能耗。
虽然高分子天美注册的优势明显，但仍存在一些缺点。颜色普遍呈现黄色或者在改性颗粒烧结后颜色变深；分散作用和絮聚作用能够相互转化，若聚合物的分子链过长，会导致解吸附或再碳酸钙颗粒表面发生折叠，引起粒子之间的缠结作用，形成絮聚。所以聚合物的相对分子质量必须控制在最佳范围内。
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